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天富_鎳及鎳合金制件的拋光
發(fā)布時(shí)間:2024-07-29 03:07
鎳及鎳合金制件的拋光 時(shí)間:2022-08-18 鎳及鎳合金制件的拋光 ? ?鎳及鎳制件的機(jī)械拋光? ?? 自19世紀(jì)70年代以后,高整平光亮酸性鍍銅和高整平光亮鍍鎳技術(shù)已日臻完善,大部分裝飾性電鍍銅/鉻或鎳鐵/鉻制件已可不用機(jī)械拋光鎳鉻表面,即可達(dá)到各種零部件裝飾性的要求。只有少數(shù)光亮度要求特別高或反射率要求特別高的部件,在鍍光亮鎳后或在鍍鉻后再進(jìn)行適當(dāng)?shù)淖詣?dòng)拋光機(jī)的機(jī)械拋光。這種類(lèi)型的機(jī)械拋光大都采用常規(guī)的機(jī)械拋光天富平臺(tái)設(shè)備進(jìn)行。 隨著電腦的日益普及,鋁基化學(xué)度鉻鎳磁碟的應(yīng)用也越來(lái)越普遍。具有高機(jī)械強(qiáng)度、高耐蝕性、同時(shí)又無(wú)磁性化學(xué)鍍鎳磷(高磷)合金鍍層已被確認(rèn)為高密度磁記錄介質(zhì)層的最佳底鍍層,這已為許多專(zhuān)利所證明?;瘜W(xué)鍍磷合金可以在無(wú)外界電流的條件下直接在經(jīng)過(guò)預(yù)處理過(guò)的鋁碟上施鍍,方法簡(jiǎn)單,生產(chǎn)效率高,而且所得的鎳磷鍍層具有很好的結(jié)合力,結(jié)晶細(xì)小,厚度分布十分均勻。鎳磷合金磁碟的機(jī)械拋光由塑料棍、冷卻劑、噴口和拋光帶組成。拋光時(shí)控制軸承的內(nèi)壓或外壓,將含磨料粒子的拋光帶壓在被拋光的Ni—P合金磁碟上,同時(shí)冷卻劑通過(guò)噴口Ni-P鍍層與拋光帶的界面,轉(zhuǎn)動(dòng)拋光帶即可進(jìn)行自動(dòng)拋光機(jī)機(jī)械拋光。拋光時(shí)也可用不含磨料粒子的拋光帶,磨料與冷卻劑混合后由噴口噴向拋光帶,磨粒與冷卻劑混合后由噴口噴向拋光帶與磁碟件的間隙,磨料粒子(如Al2O3)對(duì)冷卻劑的混合比是Al2O3:水=(2~3)g:1000mL。 ?自動(dòng)拋光機(jī)的拋光帶通常用編織聚酯纖維布,厚度100υm,拋光帶可涂上研磨劑粒子和粘合劑的混合物。研磨劑可用金剛石、氧化鋁 、碳化硅、氧化鉻、氧化鐵、氧化鈰或者它們混合物。研磨劑的粒徑通常在2υm~3υm左右,對(duì)鋁磁碟最常見(jiàn)的是氧化鋁做磨料粒子。 在美國(guó)專(zhuān)利中介紹了一種用冷卻劑與磨料的混合液進(jìn)行機(jī)械拋光化學(xué)鍍鎳磷磁碟的方法。這種混合液含有兩種氧化鋁,,一種是六邊形未經(jīng)未經(jīng)潤(rùn)滑處理Al2O3,其粒徑為1υm~10υm(通常用3υm~5υm),Al2O3的含量體積分?jǐn)?shù)為1%~5%;另一種Al2O3為膠體狀A(yù)l2O3懸浮液,其濃度為5%~10%(通常是6%~8%),粒徑在10?~1000?,它也可以用涂附了Al2O3的石英粉來(lái)代替純的Al2O3。懸浮液的PH為4~6(5~6為佳),它含有少量的表面活性劑。若加入羥丙基纖維素,可提高懸浮液的粘稠度并使PH值升高至7。